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帕多瓦大學(xué)工業(yè)工程系Kai Huang教授團(tuán)隊(duì)在《Small》期刊上發(fā)表文章“Volumetric Additive Manufacturing of SiOC by Xolography”,,本文介紹了一種用預(yù)陶瓷聚合物的SiOC陶瓷的體積增材制造(VAM)方法,具體采用了Xolography(線性體積增材制造工藝)技術(shù)作為打印技術(shù),,體積增材制造工藝可以避免其他還原光聚合技術(shù)典型的階梯效應(yīng),。通過(guò)優(yōu)化預(yù)陶瓷聚合物含量和透射率之間的權(quán)衡后,減輕了打印過(guò)程中打印部件的凹陷,,并防止了形狀變形,。在優(yōu)化參數(shù)下,還制備了許多表面光滑,、特征鮮明的復(fù)雜實(shí)心多孔陶瓷結(jié)構(gòu),。本研究?jī)?nèi)容為μm/mm級(jí)陶瓷增材制造提供了一種高效的高表面質(zhì)量和大幾何形狀的新方法,為微機(jī)械系統(tǒng),、微電子元件等領(lǐng)域的應(yīng)用提供了可能性,。
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WHAT—什么是Xolography技術(shù)?
Xolography技術(shù)是體積打印技術(shù)的一種分支,,采用雙光束固體樹(shù)脂作為打印墨水,,對(duì)應(yīng)的使用兩種光(UV+可見(jiàn)光)作為光固化樹(shù)脂的光源,在具體技術(shù)實(shí)施中,,含有光固化樹(shù)脂的比色皿沿打印方向移動(dòng)(平行于投射待打印圖像的可見(jiàn)光),,固定的UV光片垂直穿過(guò)比色皿,,在受限的單體體積內(nèi)誘導(dǎo)局部聚合(可參考圖1a)。而受到輻照的材料中,,雙色光引發(fā)劑(DCPI)在暴露于紫外線照射時(shí)會(huì)經(jīng)歷從基態(tài)到激發(fā)態(tài)的轉(zhuǎn)變,。隨后,它吸收來(lái)自投影儀的可見(jiàn)光,,其中包含與要打印的形狀相關(guān)的信息,,從而能夠在紫外線和可見(jiàn)光相交的地方進(jìn)行選擇性固化,其中印刷過(guò)程中的連續(xù)運(yùn)動(dòng)沒(méi)有停頓,,有助于保持結(jié)構(gòu)完整性并創(chuàng)建光滑的表面,,而不會(huì)形成層與層之間的界面,最終獲得一個(gè)高分辨率的光滑模型,。
WHY—本文提及的Xolography技術(shù)與傳統(tǒng)DLP,,SLA或者其他VAM技術(shù)如CAL比有什么優(yōu)勢(shì)?
光固化系統(tǒng)能夠使用數(shù)字光處理(DLP)和立體光刻設(shè)備(SLA)制造具有復(fù)雜結(jié)構(gòu)和高分辨率的零件或雙光子聚合(TPP)對(duì)于DLP和SLA,,加工涉及在輻照(通常是紫外光)下對(duì)液態(tài)光敏聚合物進(jìn)行選擇性逐層固化,,能夠制造具有亞毫米級(jí)細(xì)節(jié)的相當(dāng)大和復(fù)雜的零件。然而,,隨著對(duì)高質(zhì)量表面質(zhì)量和快速制造日益復(fù)雜和詳細(xì)結(jié)構(gòu)的需求不斷提高,,仍有一些挑戰(zhàn)需要解決。例如,,在SLA和DLP工藝中,,需要特定的程序來(lái)平整液體表面或在連續(xù)層的光聚合之間重新填充打印區(qū)域。這通常會(huì)導(dǎo)致與層界面相關(guān)的各向異性,,以及歸因于階梯效應(yīng)的次優(yōu)表面質(zhì)量,。常用的VAM技術(shù)(如計(jì)算機(jī)軸向光刻(CAL)),能夠?qū)⒋蛴∧谛D(zhuǎn)樹(shù)脂容器中,,通過(guò)多角度的光照疊加來(lái)實(shí)現(xiàn)建筑體積的選擇性凝固,,但需要反饋優(yōu)化來(lái)補(bǔ)償樹(shù)脂對(duì)光的非線性響應(yīng)。
而Xolography通過(guò)將正交光的交點(diǎn)與建筑體積的線性運(yùn)動(dòng)相結(jié)合來(lái)運(yùn)行,。因此,,無(wú)需反饋優(yōu)化,可以實(shí)現(xiàn)更高的分辨率(大約是CAL的十倍),,同時(shí)能夠快速制造具有復(fù)雜結(jié)構(gòu)特征和高分辨率的物體,。該技術(shù)基于雙色光聚合和不同波長(zhǎng)光束的相交,其中可見(jiàn)光產(chǎn)生的圖像圖案投射在一張紫外光的激發(fā)打印區(qū)上,。由于含有光固化樹(shù)脂的比色皿具有連續(xù)的線性和相對(duì)較快的運(yùn)動(dòng),,因此可以克服其他還原光聚合技術(shù)的典型局限性,例如速度慢和幾何限制(表面質(zhì)量差和無(wú)法打印封閉部件),。此外,,使用粘性樹(shù)脂是減少打印過(guò)程中零件意外位移所必需的,,有助于在沒(méi)有任何支撐的情況下制造大型懸垂。
HOW—研究團(tuán)隊(duì)提出了一種利用Xolography技術(shù)制備高分辨率陶瓷模型的方法,。
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圖1 打印示意圖以及交聯(lián)過(guò)程示意圖
在這項(xiàng)工作中,,首次使用預(yù)陶瓷聚合物通過(guò)Xolography制造了具有光滑表面和復(fù)雜結(jié)構(gòu)的陶瓷部件(圖1a)。圖1b顯示了一個(gè)空心的立方體籠子,,里面懸浮著一個(gè)球,,通過(guò)Xolography打印在比色皿中。在周圍未聚合樹(shù)脂為球提供的支撐下,,可以制造出這種單獨(dú)的懸浮結(jié)構(gòu),而無(wú)需支撐和與去除支撐相關(guān)的風(fēng)險(xiǎn),,這是傳統(tǒng)還原光聚合方法的典型特征,。從比色皿中提取、清洗,、冷凍干燥和熱解后,,樣品保持給定形狀,獲得無(wú)裂紋和殘留氣孔的SiOC陶瓷部件,。
使用具有高陶瓷產(chǎn)率的市售聚硅氧烷樹(shù)脂(H44)作為陶瓷源,,并與兩種光固化樹(shù)脂(二氨酯二甲基丙烯酸酯(UDMA)和聚(乙二醇)二丙烯酸酯(PEGDA))混合。UDMA是主要的光敏聚合物,,能夠在產(chǎn)生的自由基的活化下快速交聯(lián),,并賦予印刷部件更高的剛性,有利于以后將其從大桶中取出,。然而,,H44在UDMA中的溶解度較低,而在PEGDA中的溶解度較高,,因此添加PEGDA以增加H44的含量,,而不會(huì)降低光聚合過(guò)程中的交聯(lián)能力。還添加了一些氣相二氧化硅以優(yōu)化粘度,,樟腦作為瞬態(tài)孔隙發(fā)生器,,用于在熱解過(guò)程中釋放分解氣體。作為II型光引發(fā)劑,,根據(jù)先前的文獻(xiàn),,采用了專有的DCPI,在1-二甲氨基-2-丙醇作為助引發(fā)劑的幫助下實(shí)現(xiàn)聚合,。之所以選擇這種胺,,是因?yàn)樗軌虺洚?dāng)質(zhì)子供體,并且在聚合過(guò)程中具有高鏈轉(zhuǎn)移反應(yīng)性,。此外,,胺基自由基傾向于與氫反應(yīng)形成過(guò)氧自由基,,而過(guò)氧自由基又與胺反應(yīng)以重新啟動(dòng)鏈傳播。圖1c說(shuō)明了自由基產(chǎn)生的機(jī)制,,包括紫外光和可見(jiàn)光下的激發(fā),、快速電子轉(zhuǎn)移和質(zhì)子抽取。由共引發(fā)劑產(chǎn)生的胺自由基具有激活聚合的高反應(yīng)性,,而來(lái)自光引發(fā)劑的自由基由于空間效應(yīng)和共振穩(wěn)定性而反應(yīng)不明顯,。材料化學(xué)結(jié)構(gòu)的演變示意圖如圖1d所示,從固化到熱解,。
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圖2 兩種不同配方TG分析以及SEM圖
與通常不需要加熱后處理的聚合物材料的打印不同,,這項(xiàng)工作的目的是使用Xolyographic從預(yù)陶瓷聚合物制造陶瓷,通過(guò)熱解打印的綠色體來(lái)實(shí)現(xiàn),。因此,,通常需要加工材料的高陶瓷產(chǎn)量,以避免由于熱解過(guò)程中氣體釋放和體積收縮而可能發(fā)生的開(kāi)裂,。但是,,為了實(shí)現(xiàn)Xolgraphing,樹(shù)脂在工作波長(zhǎng)(Xolography為405和600 nm)處應(yīng)盡可能透明,,以避免光的吸收和散射,,否則,打印部件的分辨率將嚴(yán)重降低,,或者由于比色皿內(nèi)輻射穿透不足而無(wú)法打印部件,。因此,在獲得無(wú)裂紋陶瓷和高分辨率和可打印部件之間需要權(quán)衡H44的含量,。僅通過(guò)調(diào)整光敏聚合物與H44之間的比例很難解決這個(gè)問(wèn)題,,特別是當(dāng)需要厚度為≈1-10毫米的固體結(jié)構(gòu)時(shí)。為了解決這一挑戰(zhàn),,樟腦被引入樹(shù)脂配方中,,作為瞬態(tài)孔隙率的發(fā)生器,促進(jìn)在熱解過(guò)程中光敏聚合物分解釋放氣體,。預(yù)計(jì)樟腦將在熱處理前通過(guò)冷凍干燥和熱解過(guò)程中的低溫去除,。眾所周知,由于分解氣體的釋放,,在預(yù)陶瓷聚合物組分的熱解過(guò)程中也會(huì)產(chǎn)生瞬態(tài)而非永久的孔隙率,,但溫度高于樟腦揮發(fā)的溫度。熱重?cái)?shù)據(jù)(圖2a)表明,,樟腦在≈100至200°C的溫度區(qū)間內(nèi)揮發(fā),,遠(yuǎn)遠(yuǎn)早于UDMA和PEGDA的分解,分別發(fā)生在200-450°C和270-430°C范圍內(nèi),。圖2b,,c顯示了在冷凍干燥和在200°C下在氮?dú)庵袩崽幚?小時(shí)后不含樟腦和含樟腦的樣品的SEM圖像,。它揭示了數(shù)百納米范圍內(nèi)納米孔的存在,證實(shí)了通過(guò)去除樟腦而形成的通道網(wǎng)絡(luò)的形成,。與不含樟腦的原料相比,,熱解樣品(三葉草結(jié)構(gòu)(Φ4.3×0.8 mm3熱解后))由含有樟腦的原料生產(chǎn),具有無(wú)裂紋和光滑的表面以及良好的分辨率,,在印刷方向上也是如此,。垂直于印刷方向看不到階梯效應(yīng),這在傳統(tǒng)的逐層印刷技術(shù)中總是會(huì)出現(xiàn),,這表明這種方法在生產(chǎn)高質(zhì)量結(jié)構(gòu)方面具有優(yōu)越性,。在裂縫的橫截面上沒(méi)有觀察到孔隙或裂縫等缺陷,這表明在去除所有有機(jī)成分后,,樟腦產(chǎn)生的孔隙在高溫陶瓷過(guò)程中愈合,。
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圖3 使用GUIDE-3DP打印的通道的內(nèi)徑和外徑可以獨(dú)立調(diào)節(jié)
在樟腦的幫助下,可以使用有限量的H44通過(guò)Xolography獲得無(wú)裂紋陶瓷,,以進(jìn)一步提高分辨率。在這里,,研究了具有不同量H44的配方在目標(biāo)波長(zhǎng)區(qū)域中的透射率,。如圖3b所示,600和405 nm處的透射率分別增加了19%和28.5%,,H5含量降低了44%(34.3(樣品4 H44-0.17R106)和39.5重量%H44(樣品5 H44-0.17R106)的配方之間的比較),,導(dǎo)致印刷結(jié)構(gòu)的分辨率更高。事實(shí)上,,使用含有較低量H44的原料生產(chǎn)的伽利略·伽利萊(Galileo Galilei)的印刷半身像顯示出更精細(xì)的面部細(xì)節(jié),,例如可識(shí)別的眼睛和鼻孔,盡管陶瓷轉(zhuǎn)換的線性收縮率較大,,為46%,,陶瓷產(chǎn)量為27.7重量。伽利略伽利萊雕像是一個(gè)堅(jiān)固的結(jié)構(gòu),,厚度為3.5毫米(熱解前為6.5毫米),,比厚與陶瓷屈服比為126.4 μm/wt%,使用預(yù)陶瓷聚合物通常很難在沒(méi)有裂紋的情況下獲得,。因此,,樟腦的引入不僅降低了實(shí)現(xiàn)更高分辨率所需的預(yù)陶瓷樹(shù)脂含量,還有助于生產(chǎn)更厚,、沒(méi)有裂紋的散裝陶瓷部件,。
除了適當(dāng)?shù)母咄干渎释猓需要1-20 Pa·s范圍內(nèi)的適當(dāng)粘度才能實(shí)現(xiàn)Xolography,,尤其是在構(gòu)建無(wú)支撐懸垂結(jié)構(gòu)時(shí),。根據(jù)斯托克斯定律,,考慮到下沉速率與粘度成反比,過(guò)低的粘度會(huì)導(dǎo)致打印部件在打印過(guò)程中下沉并扭曲懸浮特征,。通過(guò)添加非常有限量的氣相二氧化硅,,粘度變得足夠高(在這種情況下分別為5.3和7.9 Pa·s)(見(jiàn)圖3c),以在整個(gè)印刷過(guò)程中提供有效的支撐,,在印刷時(shí)間方面可以忽略不計(jì)的下沉速度(見(jiàn)圖1b和3c,,比色皿內(nèi)的坯體)。雖然也可以對(duì)具有較高粘度的光固化系統(tǒng)進(jìn)行X光照相,,但從比色皿中提取和清潔打印部件可能會(huì)變得具有挑戰(zhàn)性,。此外,高粘度阻礙了反應(yīng)物質(zhì)的擴(kuò)散,,降低了聚合速度,。
使用優(yōu)化的配方,可以打印各種不同的幾何形狀,,然后成功地將其轉(zhuǎn)換為具有復(fù)雜大孔或固體結(jié)構(gòu)的陶瓷部件(見(jiàn)圖3c),。觀察到,樣品在從比色皿中提取和熱解后都保持了設(shè)計(jì)的形狀并且沒(méi)有受到損害,。這表明,,光固化的有機(jī)聚合物在適當(dāng)?shù)臏囟确秶鷥?nèi)分解,以支持預(yù)陶瓷聚合物,,使其在聚合物到陶瓷的轉(zhuǎn)化過(guò)程中能夠?qū)崿F(xiàn)熱交聯(lián)而不會(huì)軟化和相關(guān)的流動(dòng),,這與其他類似的混合物一致。
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圖4 熱解樣品的微觀結(jié)構(gòu)
陀螺結(jié)構(gòu)(圖4a)具有光滑的表面,,沒(méi)有顯示出任何階梯效應(yīng)的跡象,,這是DLP打印的結(jié)構(gòu)的典型特征�,?招谋3旨埽▓D4b)由≈500 μm尺寸的桁架組成,,并包含一個(gè)在熱解后仍附著在保持架上的球。為了避免粘附,,在進(jìn)一步的實(shí)驗(yàn)中,,在熱解之前在球和空心立方體籠之間插入一張小紙,之后由于其碳化而用壓縮空氣吹氣,,可以很容易地將其去除,。為了實(shí)現(xiàn)桁架結(jié)構(gòu)的打印,采用了更強(qiáng)的紫外光強(qiáng)度來(lái)減輕通過(guò)比色皿的路徑上的光損失,,由于紫外線沿打印路徑的散射和波動(dòng),,導(dǎo)致籠中球結(jié)構(gòu)表面出現(xiàn)劃痕狀線條(不是由任何階梯效應(yīng)引起的)。這可以通過(guò)進(jìn)一步減少H44和增加樟腦來(lái)進(jìn)一步優(yōu)化樹(shù)脂透過(guò)率來(lái)緩解。特征尺寸為50 μm的印刷螺旋齒輪清晰的結(jié)構(gòu)表明在微米尺度上制造陶瓷部件的方法可能在微機(jī)械系統(tǒng)領(lǐng)域具有巨大的潛力(圖4d),。
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圖5 不同的紫外線輻照度值打印的伽利略·伽利萊半身像
除了對(duì)光固化預(yù)陶瓷樹(shù)脂進(jìn)行優(yōu)化外,,作者還研究了印刷參數(shù)對(duì)印刷件的印刷適性和表面質(zhì)量的影響,包括移動(dòng)速度和UV輻照度,。通常,,紫外輻照度移動(dòng)速度圖中存在三個(gè)區(qū)域。當(dāng)紫外線輻照度超過(guò)給定移動(dòng)速度的必要閾值時(shí),,通過(guò)實(shí)現(xiàn)設(shè)計(jì)形狀確定,,并且沒(méi)有過(guò)度固化和壁上的紫外線硬化,比色皿壁附近的過(guò)度UV固化會(huì)導(dǎo)致印刷部件粘附到比色皿上,。這給提取帶來(lái)了困難,,并在比色皿的兩側(cè)形成不需要的交聯(lián)片。此外,,由于過(guò)度固化,,打印零件的特征往往尺寸不正確。相反,,當(dāng)在較高的移動(dòng)速度下使用較小的紫外線輻照度時(shí),,觀察到不完整的零件或沒(méi)有凝固。這歸因于未充分激活的光引發(fā)劑未能產(chǎn)生引發(fā)聚合所必需的必要數(shù)量的自由基,。因此,,只有當(dāng)輻照度和移動(dòng)速度在一定值范圍內(nèi)時(shí),才能實(shí)現(xiàn)可印刷性,,同時(shí)也取決于材料體系的化學(xué)性質(zhì)和特性。伽利略·伽利萊(Galileo Galilei)的半身像不同的紫外線輻照度值的打印樣品,,很明顯,,較低的輻照度水平導(dǎo)致缺少一些面部特征,例如胡須的一部分(圖5a),。同時(shí),,增加輻照度有助于生產(chǎn)具有清晰特征和光滑表面的完整印刷部件(圖5b)。輻照度的進(jìn)一步增加會(huì)導(dǎo)致過(guò)度固化導(dǎo)致的表面質(zhì)量變差(圖5c),。同時(shí)還觀察到樣品厚度隨著紫外線輻照度的增加而增加,,再次表明打印參數(shù)會(huì)影響打印零件的精度。
結(jié)論:作者團(tuán)隊(duì)報(bào)道了一種Xolography用于從預(yù)陶瓷聚合物實(shí)現(xiàn)陶瓷部件的體積增材制造,。引入樟腦作為孔隙發(fā)生器,,允許在熱解過(guò)程中釋放分解氣體,調(diào)配至合適的預(yù)陶瓷配方后,,可以通過(guò)Xolography技術(shù)產(chǎn)生無(wú)裂紋的復(fù)雜陶瓷結(jié)構(gòu),。由于在印刷過(guò)程中含有光聚合材料的比色皿的連續(xù)運(yùn)動(dòng),獲得了沒(méi)有階梯臺(tái)階效應(yīng)的光滑表面,從而避免了使用傳統(tǒng)逐層還原光聚合技術(shù)時(shí)形成界面而產(chǎn)生的缺陷,。此外,,這種方法擴(kuò)展了可打印幾何形狀的范圍,能夠?qū)崿F(xiàn)不加支撐的懸空結(jié)構(gòu)打�,。ㄈ纾夯\中球結(jié)構(gòu)),。利用Xolography技術(shù)以及樟腦可以制備出表面光滑,無(wú)裂痕的高分辨率(~100 μm)陶瓷模型,,為微型機(jī)械系統(tǒng)的制備提供制備方案,,為體積增材制造制造領(lǐng)域提供新的墨水方案。
原文鏈接:https://doi.org/10.1002/smll.202402356
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