3D打印技術(shù)出現(xiàn)在20世紀(jì)90年代中期,將近三十而立了,,技術(shù)創(chuàng)新不斷。南極熊3D打印網(wǎng)從德國NanoScribe公司獲悉這個(gè)重大創(chuàng)新微米級的3D打印技術(shù)-激光直寫三維激光直寫——一個(gè)全新的自由度。它的3D打印技術(shù)與我們?nèi)粘K姷某练e成型完全不同,,它的全稱是三維激光直寫系統(tǒng),,是設(shè)計(jì)來以一般各種商業(yè)可用的光刻膠,來實(shí)現(xiàn)打印真實(shí)三維立體微米/納米結(jié)構(gòu),,所以為什么要稱呼The Photonic Professional GT為商用產(chǎn)品,,就是因?yàn)樗捎昧藰O為尖端的技術(shù),,價(jià)格自然不菲,。
那它到底是如何打印出細(xì)胞納米級別的物體呢?這都得建構(gòu)在多重光子吸收的原理,,NanoScribe超短的激光脈沖曝光,,預(yù)先勾勒出三維立體微納米結(jié)構(gòu)的輪廓;再經(jīng)過顯影程序,最終獲得可自行支撐的立體結(jié)構(gòu)固著于襯底材料上,。這種此工藝通�,?蛇_(dá)到線徑尺寸小于 150 納米 (依照所選用的光刻膠),搭配上特殊用途的顯微鏡的接物鏡與掃描工件載臺,,它可以用一般的 CAD 軟件來設(shè)計(jì) (可輸入文件格式: DXF ,、STL),亦可以用 NanoScribe 專門通用的設(shè)計(jì)語言 (GWL)進(jìn)行設(shè)計(jì),。
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南極熊披露:重大創(chuàng)新微米級的3D打印技術(shù)-激光直寫
2014-5-11 23:32 上傳
微米級的3D打印自由女神像,、神廟、埃菲爾鐵塔
• 技術(shù):三維激光直寫
• 材料
– 光刻膠
– 轉(zhuǎn)換工藝
• 應(yīng)用
– 細(xì)胞生物學(xué)
– 微流體
– 微納光學(xué)
– 自由表面結(jié)構(gòu)
– 超高精度的模板制作
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微米級的3D打印技術(shù)-
2014-5-11 23:35 上傳
微米級的3D打印機(jī)
卡爾斯魯厄理工分離出來的高 新科技公司group: Prof. Dr. Martin Wegener,,成立于2007年
• 卡爾蔡司公司控股40%
• 目前已經(jīng)有15臺產(chǎn)品安裝在德國,,美國,法國,,瑞士,,中國,日本等8 個(gè)國家
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微米級的3D打印技術(shù)-
2014-5-11 23:38 上傳
研發(fā),,生產(chǎn)和銷售:
– 三維激光直寫系統(tǒng)
– 光刻膠
• 相關(guān)的服務(wù):
– 潛在客戶的可行性研究
– 現(xiàn)場指導(dǎo)
– 遠(yuǎn)程服務(wù)
– 在線資料庫
• 幫助: 轉(zhuǎn)換工藝
– 專門的知識和經(jīng)驗(yàn)
– 特別是從高分子微結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)化為金屬和半導(dǎo)體微結(jié)構(gòu)
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微米級的3D打印技術(shù)-
2014-5-11 23:39 上傳
微米級3D打印技術(shù)原理
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2014-5-11 23:41 上傳
光源:
• 飛秒激光器@ λ = 780 nm
• 脈沖< 150 fs / 重復(fù)頻率: 100 MHz
• 平均能量> 60 mW
雙光子吸收: 三維微納加工的關(guān)鍵
以SU- 8 為例(最常用的負(fù)光膠):
• 近紫外曝光
• 曝光的閾值
• 陽離子高分子化
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重大創(chuàng)新微米級的3D打印技術(shù)-激光直寫
2014-5-11 23:47 上傳
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重大創(chuàng)新微米級的3D打印技術(shù)-激光直寫
2014-5-11 23:47 上傳
打印過程
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微米級的3D打印技術(shù)-
2014-5-11 23:52 上傳
術(shù)語: 三維… 二維
特性:
• 三維特征尺度小于150 納米
• 隨機(jī)復(fù)雜表面的制作
• 二維特征尺度可以達(dá)到100 納米
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微米級的3D打印技術(shù)
2014-5-11 23:53 上傳
Photonic Professional: 特性
• 簡單易用
• 自動調(diào)節(jié)聚焦位置
• 現(xiàn)場刻寫控制
• 直觀用戶界面
• 可通過腳本文件對所有相關(guān)參數(shù)進(jìn)行調(diào)節(jié)
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2014-5-11 23:57 上傳
Photonic Professional: 定位
復(fù)合平臺:
– 壓電陶瓷平臺:
300 x 300 x 300 μm
重復(fù)精度
< 4 nm
– 機(jī)械運(yùn)動平臺:
100 x 100 mm
重復(fù)精度
< 1 μm
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