直接成像數字曝光技術“打印”創(chuàng)新未來

自18世紀在德國被發(fā)明以來,，被稱為“數字曝光”的打印方法經歷了一段很長的發(fā)展歷程,。今天，數字曝光可以在多種表面上打印文字和圖片,，包括書本和T恤,。
這項打印技術的變化也不斷地激發(fā)出新的創(chuàng)新,。被稱為“直接成像數字曝光”的技術被設計人員用來快速,、輕松地“打印”多種電子產品,，所使用的方法是將感光材料暴露在紫外光（UV）之下,。

現在,，直接成像數字曝光可被用于制作印刷電路板（PCB）、球柵陣列（BGA）,、芯片尺寸封裝（CSP）,、平板顯示、實時條形碼標刻，以及計算機直接制版印刷——這項打印工藝可直接將一副數字圖像從計算機發(fā)送至一塊印板上,。
與傳統(tǒng)數字曝光技術相比，直接成像數字曝光的優(yōu)勢有很多,，其中包括更高的材料靈活性,、更低的成本和更快的打印速度。
由TI實現的直接成像數字曝光
在TI,，我們的DLP®高速數字微鏡器件（DMD）為那些對精度要求達到微米級的直接成像數字曝光開發(fā)人員提供了一個強大工具,，從而能夠在批量生產情況下實現快速曝光,，以及更低的運營成本。
通過使用可編程光控制的DLP技術,，開發(fā)人員可以將圖形直接曝光在光阻膠片上，而無需接觸掩膜,，這樣做降低了材料成本,，提高了生產率，并且可實現圖形的快速變化,，使得這項技術非常適用于最小外形尺寸需要兩次曝光的情況,。
TI高度靈活的芯片組架構還提供多系統(tǒng)控制和連通性選項，諸如針對電機同步,、傳感器和其它外設的觸發(fā)器,。
DLP直接成像數字曝光的典型系統(tǒng)方框圖

觀看視頻了解DLP無掩膜數字曝光是如何降低成本并增加PCB可靠性的進一步了解數字曝光

DLP6500FLQ、DLP7000,、DLP9000,、和DLP9500芯片系列全都支持低至400納米的波長。最近,，德州儀器在ti.com上推出了DLP7000UV和DLP9500UV,，以支持低至363納米的波長,。TI提供針對所有這些DMD的評估模塊產品庫,，以及針對數字曝光的輔助性TI Designs參考設計,，其中包括電路原理圖,、布局布線文件、物料清單和一份測試報告,。

TI Design特有一塊系統(tǒng)級的DLP開發(fā)板,，由于集成了DLP9000X——由超過4百萬個微鏡制成的、擁有最高分辨率的DLP數字微鏡器件,，該開發(fā)板具有最大的數據吞吐量,；這塊開發(fā)板還裝備有我們速度最快的數字控制器，即支持每秒高達60千兆像素數據速率的DLPC910,。DLPC910數字控制器還為設計人員提供了高級像素控制,，在全幀輸入功能的基礎上，支持隨機行尋址,。